20世纪30年代，Gunterschulze等人发现将某些金属浸入电解液中，在强电场的作用下，在金属的表面会发生火花放电的现象，初始认为这种火花放电现象会破坏金属表面的氧化膜，但后来研究发现，此现象也可以生成氧化膜且性能更加优异。在70年代，美国，德国及其前苏联都对该技术进行大量研究，其中，前苏联在研究水平以及规模上处于前沿。90年代后，更多的国家都在开始对微弧氧化技术进行研究。以北京师范大学低核能物理研究所、哈尔滨工业大学、哈尔滨理工大学、西安理工大学等为主，在引进与吸收俄罗斯的技术基础上进行了大量的研究。随着人们对微弧氧化技术不断地研究，其应用将会越加的广泛。
目前，对于微弧氧化技术研究主要集中在铝、镁、钛及其合金，但对于微弧氧化陶瓷膜的生长机理还没有统一的定论。在微弧氧化过程一般分为4个阶段：阳极氧化阶段、火花放电阶段、微弧氧化阶段和熄弧成膜阶段。吴汉华 [1] 等在微弧氧化研究中发现：当电压保持不变时，随着时间的变化电流会明显的分为五个阶段，陶瓷层的形貌与结构随着氧化时间的增加发生阶段性的变化：第1阶段，样品电流会由开始的4.7 A迅速下降到2.6 A，样品表面会先出现大量气泡，随即产生大量微小弧点，陶瓷层的平均厚度约为1 μm；第2阶段，电流在2.6 A~2.4 A之间波动，样品表面有无数均匀游动的白色弧点，在此阶段，陶瓷层的厚度随时间增加较快，电流却变化较小；第3阶段，电流由2.4 A升至3.5 A，微小弧点变为更大的弧光斑，陶瓷层的表面孔径也会增大；第4阶段，电流由3.5 A下降至1.8 A，样品表面会发生连续击穿现象，弧光斑点变得更大；第5阶段，电流由1.8 A下降到0.1 A，只能观察到零星微小的火星。
