离子镀是1950年代初在美国开发的技术，属于航空技术的一部分。该技术一经研发，便有了迅速的发展。它由于对切削工具和模具的耐用性的提高非常有效，因而应用十分广泛，遍布全球。真空离子镀膜设备是通过对热量以及来自等离子体的能量的利用，在真空环境中将金属蒸发，使其与反应性气体结合，然后将其用于轰击基材，最终成膜。比之传统的浸泡镀膜，它有优越的耐磨性和粘附性。
对于压力在10⁻³Pa~10⁻⁴Pa范围内的真空离子镀膜设备的设计结构有以下要求：
1、电阻值。根据GB/T 11164一99标准中的规定，来决定真空室所接不同电位间的绝缘电阻值的大小。
2、离子轰击电源。离子镀膜机通常具有基材负偏压和离子轰击电源，离子轰击电源应具备将非正常放电有效抑制的功能，以达到稳定的工作状态。
3、基材架。基材架与真空室体之间应有绝缘设计，基材架的设计要考虑基材镀制的膜层均匀问题。
4、加热系统。加热系统需要合理的布置，加热器结构布局要考虑到基材的温升均匀问题。
5、沉积源。设计离子镀沉积源要充分考虑镀膜过程中的离化率问题，将离化率尽可能地提高，同时提高了靶材利用率。沉积源的功率要合理匹配，沉积源在真空室体的位置同样需要合理的布置。
6、观察窗结构。真空镀膜室设有观察窗，在此观察窗上设置挡板。要求观察窗可观察到沉积源以及其他关键部位的工作状态。
7、蒸汽与油的捕集。若设备使用的抽气系统是以扩散泵为主泵，则要合理设置油蒸气捕集阱。
8、屏蔽与测量装置。真空测量规管安装于低真空和高真空管道上及真空镀膜室上，可分别各部位的真空度进行测量。若电场干扰了测量，应安装电场屏蔽装置于测量口处，用以阻截该电场。
9、密封装置的结构。根据GB/T 6070标准中的规定，来决定设备中的真空管道、密封圈、密封法兰等装置的结构型式。
苏州粤辉煌新材料科技有限公司是一家专业从事微弧氧化设备及微弧氧化加工和微弧氧化加电泳复合处理（mcc）的专业制造加工商。主营业务：微弧氧化、高功率脉冲磁控溅射、hipims电源、离子镀设备。
