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微弧氧化膜层的形成过程是怎样的?_苏州粤辉煌专注微弧氧化设备整体解决方案

微弧氧化膜层的形成过程是怎样的?

发布时间:2022-07-05阅读量:640

       微弧氧化技术(MAO)它是在阳极氧化的基础上发展起来的一项新技术。它是在含有特定离子的电解质中,通过弧光放电处理和电化学氧化的共同作用,在铝、镁、钛等有色金属及其合金材料的表面原位产生一层与基体结合良好的陶瓷层的表面处理技术。膜层具有耐腐蚀性高、硬度高、耐磨性好、阻抗高、隔热性好等特点。

       当微弧氧化膜层生长时,首先在基体表面发生化学反应,产生一层阳极氧化膜。当反应电压增加时,膜厚度会进一步增加,电压会继续增加,厚度会相应增加。但当反应电压增加到一定程度时,膜层会因无法承受工作电压而放电和击穿,产生等离子体放电。反应的高温会熔化膜层,氧化物会在富氧环境中形成。同时,因为它在电解质中,熔融物瞬间冷凝,在基体表面产生一层陶瓷。陶瓷膜的产生会导致工作电压进一步升高,膜层再次被击穿,膜层厚度进一步增加,膜层反复生长。

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