微弧氧化(Microarc oxidation, MAO)又称等离子体电解氧化氧化（Plasma electrolytic oxidation, PEO）、氧化微等离子体(Microplasma oxidation, MPO)等，是铝、镁、钛等金属及其合金表面通过电解质与相应电参数的结合，依靠弧放电产生的瞬时高温高压作用，以基质金属氧化物为主的陶瓷膜原位生长。微弧氧化技术处理最多的材料是镁、铝、钛及其合金。此外，钽、铌、锆、铍等材料的表面可直接进行微弧氧化，具有广阔的应用前景。
微弧氧化技术的特点：
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜层是表面多孔(孔径几微米)、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高(维氏硬度可在几百到三千左右) 几微米到几百微米之间，厚度在几微米到几百微米之间。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副，摩擦率4.9*10 -7mm³/Nm，摩擦系数0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蚀性
耐中性盐雾腐蚀(国标)≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。
4. 耐热性高 绝缘性好
根据基材熔点的温度，耐热性高，可承受高温使用 绝缘性能好，绝缘电阻膜阻>100MΩ 绝缘耐压>5000V/秒。
5. 高结合力
陶瓷膜在基体原位生长，膜层与基金属结合力强，陶瓷膜致密均匀，剪切强度330MPa，拉伸强度370MPa。
注：上述试验参数是基于铝合金材料，如笔电上镁合金微弧氧化表面性能稍差。
