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微弧氧化加工厂_苏州粤辉煌新材料科技有限公司_新闻中心_

微弧氧化的特点及应用

微弧氧化技术性广泛运用于航空公司、航空航天、武器、机械设备、车辆、电子器件、交通出行、石油化工设备、纺织品、包装印...

2021-08-12 微弧氧化的特点及应用

离子镀设备的构造是怎样的?

离子镀是1950年代初在美国开发的技术,属于航空技术的一部分。该技术一经研发,便有了迅速的发展。它由于对切削工具和...

2021-08-06 离子镀设备的构造是怎样的?

离子镀设备有什么工作原理?

离子镀膜设备起源于20世纪60年代D.M.Mattox提出的理论,且在当时开始有了对应的实验;直到1971年,Ch...

2021-08-06 离子镀设备有什么工作原理?

微弧氧化应用领域介绍

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2021-08-04 微弧氧化应用领域介绍

高功率脉冲磁控溅射等离子技术特性管...

铜(Cu)因为其低电阻、高有机化学可靠性和出色的抗电迁移性,常被用以Si基半导体元器件表面金属化。...

2021-08-02 高功率脉冲磁控溅射等离子技术特性管控及对Cu塑料薄膜构造特性的危害

微弧氧化电源设备的特点

带液晶显示屏/触摸显示器,可全自动自动控制系统和自动式设定;具有网上可编程控制器功效;生产制造時间精确到秒;具有恒...

2021-07-30 微弧氧化电源设备的特点

微弧氧化封孔法处理钛合金表面

因为钛合金微弧氧化膜表面松散多孔结构,一些学者们想方设法根据物理学、有机化学或是光电催化方式...

2021-07-27 微弧氧化封孔法处理钛合金表面

高功率脉冲磁控溅射在微深孔表层的镀...

根据独立开发设计的电光电子器件源提高等离子体清理离子注入系统软件(AEG)对微孔板瓷器或是微孔板夹层玻璃等非金属材...

2021-07-26 高功率脉冲磁控溅射在微深孔表层的镀膜上的运用

高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)...

高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电凭着高离化率优点,早已变成物理学液相沉积(PVD)行业的关键技术。由于HiP...

2021-07-26 高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)等离子体放电时光特性研究

镁合金微弧氧化和普通阳极氧化区别

微弧氧化的膜层由细密层和疏松层两层构成,与普通阳极氧化膜相比,微弧氧化膜的空地小,空地率低,膜层与基体结合严密,质...

2021-07-24 镁合金微弧氧化和普通阳极氧化区别

镁合金微弧氧化加工流程

镁合金微弧氧化的加工工艺流程:除油→去离子漂洗→微弧氧化→自来水漂洗,注意化学除油(配合超声波除油作用更好)清洗微...

2021-07-24 镁合金微弧氧化加工流程

微弧氧化工艺的原理及特性

微弧氧化技术性的基本原理及特性:微弧氧化或微等离子技术表面瓷器化技术性,就是指在一般阳极氧化氧化的基本上,运用电光...

2021-07-24 微弧氧化工艺的原理及特性

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